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真空镀膜机操作步骤?
发布时间:2014-12-16 浏览:4848 次

  1。清洗前,看片子是否短路,是否大小与样品托合适,蒸镀时放样品托的架子升最高,且旋转。

  2.打开电流开关,及时打开ABC舟中一个,打开束源炉,及时打开其中一个启动A、B等。

  3。掺杂材料用量覆盖舟底即可。

  操作步骤:

  1、打开总开关,包括冷却水开关和机器开关。

  2、打开镀膜机总开关,样品旋转开关,升降开关按钮。

  3、将玻璃基板至于样品托中,导电一面向下。

  4、蒸镀室、预处理室放气。

  5、打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向关,逆时针方向开),推拉杆推至大真空室中,将样品放到推拉杆上,将推拉杆拉回至预处理中。关闭闸板阀(顺时关闭,逆时针开)

  6、打开快门控制电源,打开快门一,更换钨丝(每做一次实验更换一次),将铝丝挂在钨丝上(5个,挂于弯折处),检查蒸镀所需材料。

  7、将掩膜版放置于掩膜版架上。

  8、打开机械A、机械B泵。打开四个真空计,关闭放气阀。

  9、基片预处理(打开角阀):当处理室真空度达到4。0E1 (4。0×10)Pa

  时关闭预角阀,打开大真空室角阀,再打开紫外轰击电源(直流溅射电源),调节电流0.025-0.030A。轰击10-15分钟(等预处理室与蒸镀室气压平衡,打开闸板)。

  10、插入样品托:再次打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向开,逆时针方向关),将样品传送至蒸镀室,用机械手抓取样品托,并保持在机械手上;然后将将推拉杆拉回至预处理中,关闭闸板阀;降低蒸镀台(注意样品托挡板位置)与机械手平齐,将样品托轻轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽(上方导引槽)。

  11、插入掩模板:将样品升降电源调到手动,将蒸镀台旋转180度(用皮带精确定位),用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版库轨道,至于同一水平线上,用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩

  模板导引槽。

  12、当大真空室的压强为1.2E1的时候,关闭角阀,打开闸板阀。

  13、关闭机械泵A,升起样品台。

  14、打开分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要两个小时)。

  15、蒸镀过程:打开快门总开关,晶振开关(F1是清零,F5是开始或停止)。

  16、打开PID(束源炉)开关,调节温度,依次蒸镀相关材料,制备OLED器件。

  17、关闭分子泵阀门,放气(真空室顶部放气按钮)。打开真空室,取出样品。

  18、关闭真空室,待分子泵数字为零时关闭分子泵后关闭机械泵B,打开机械泵A的阀门,打开机械泵A抽低真空。如果长时间不用时一定要关闭循环水冰柜电源,以防冻裂。

 

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